Téléchargez gratuitement la police Basik Rough - Style brut et moderne
Basik Rough est une police unique disponible en formats TTF, OTF et WOFF. Elle convient parfaitement aux designs audacieux et contemporains.

Available formats: OTF, TTF, WOFF
Explorez la police Basik Rough - Un style brut et authentique
Créée par l’artiste typographique Mark Smith en 2022, Basik Rough incarne l’esprit du design contemporain avec un style brut qui attire instantanément l’attention. Cette police se distingue par ses contours irréguliers et ses imperfections intentionnelles qui lui donnent un caractère authentique, parfait pour des projets allant de la conception graphique à l’identité de marque. Son aspect texturé évoque un esprit artisanal qui la rend idéale pour des designs audacieux et modernes.
Caractéristiques et formats de la police Basik Rough
La police Basik Rough est disponible aux formats TTF, OTF et WOFF, garantissant une large compatibilité avec des logiciels créatifs tels qu’Adobe Illustrator, Photoshop, et InDesign. Ses lignes audacieuses et son style innovant en font une option prisée pour les affiches, les logos et les projets liés à la musique ou à l’art.
L’histoire derrière la police Basik Rough
La conception de Basik Rough est inspirée par le mouvement artistique brut, avec une attention particulière portée à l’authenticité et à l’expression individuelle. Mark Smith, son créateur, a voulu offrir une alternative aux polices trop perfectionnées, célébrant ainsi les imperfections qui rendent chaque projet unique et mémorable. Cette approche fait de Basik Rough une police qui attire les designers en quête de nouveauté.
Applications idéales pour la police Basik Rough
Basik Rough est particulièrement efficace pour des projets où l’originalité et l’impact visuel sont cruciaux, tels que des cartes de visite, des affichages événementiels, ou des designs de produits. Son esthétique brute la rend également parfaite pour le merchandising de groupes de musique et les événements culturels, ajoutant une touche de caractère à toute création.